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全密閉制冷加熱循環(huán)裝置-60℃ ~ 250℃

簡要描述:應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。全密閉制冷加熱循環(huán)裝置-60℃ ~ 250℃

  • 產品型號:SUNDI-6A15W
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2024-12-26
  • 訪  問  量:1826
詳情介紹
品牌LNEYA/無錫冠亞產地類別國產
應用領域化工,生物產業(yè),石油,電子,制藥

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無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制



型號

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質溫度范圍

-10℃~+200℃

控制系統(tǒng)

前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

溫差控制

設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

程序編輯

可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

通信協(xié)議

MODBUS RTU 協(xié)議  RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

溫度反饋

設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

導熱介質溫控精度

±0.5℃

反應物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量壓力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

壓縮機

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發(fā)器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

安全防護

具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

密閉循環(huán)系統(tǒng)

整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng),高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正壓防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常規(guī)重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/



全密閉制冷加熱循環(huán)裝置-60℃ ~ 250℃

全密閉制冷加熱循環(huán)裝置-60℃ ~ 250℃


  用戶在使用實驗室制冷加熱循環(huán)設備的過程中受系統(tǒng)壓力控制會導致選型結果,那么,如何將實驗室制冷加熱循環(huán)設備的壓力控制在額定區(qū)間范圍內呢?實驗室制冷加熱循環(huán)設備的壓力與哪些因素有關呢?

  1、在實驗室制冷加熱循環(huán)設備的出口增加減壓閥,這樣可以更準確的控制,像化工反應釜控溫對溫度要求比較準確,升降溫速率有要求,而且壓力的話可以自動調節(jié),

  2、將實驗室制冷加熱循環(huán)設備的旁通變大,內部自循環(huán)的口徑做大一點,這樣也可以減小壓力,然后旁通上可加球閥,手動調節(jié)壓力大??;

  3、因為壓力跟循環(huán)泵的揚程有關系,揚程和壓力成正比的關系,可以在確保流量足夠的情況選擇揚程小一點的泵,這樣壓力也可以控制的小一點;

  4、在對于循環(huán)泵的選型上還可以選擇變頻泵并在輸出管路上增加壓力調節(jié)器。

實驗室制冷加熱循環(huán)設備是制藥化工行業(yè)中常用的流體控溫的主流設備,滿足生產流程中設定的工藝溫度以及各種控溫的要求。



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