半導體用工業(yè)冷水機chiller對半導體設備使用的循環(huán)液的溫度、流量和壓力進行準確控制,以實現半導體工藝制程的控溫需求,是集成電路制造過程中的關鍵設備,溫控精度和溫控范圍要求高,應用在刻蝕、薄膜沉積、涂膠顯影、離子注入、CMP等設備。
半導體制造工藝主要分為兩大類:前道工藝(晶圓制造)和后道工藝(封裝與測試)。前道工藝涉及硅片加工、光刻、刻蝕、離子注入、薄膜沉積、清洗、拋光、金屬化等環(huán)節(jié),對應的核心設備包括硅片加工設備、光刻設備、刻蝕設備、清洗設備、離子注入設備、薄膜沉積設備、機械拋光設備、量測設備等。后道工藝涉及封裝設備和測試設備。冠亞恒溫半導體溫用工業(yè)冷水機chiller半導體制造工藝過程中的高精度溫度控制,擁有超過14年的溫度控制經驗和與各行業(yè)配套的經驗,冠亞恒溫為客戶提供標準化和定制化的溫度控制產品,結合專業(yè)技術知識,確保滿足半導體工藝中的苛刻溫度要求。
作為半導體溫控設備供應商,冠亞恒溫擁有多年的溫度控制經驗以及設備機臺配套經驗,掌握了制冷加熱動態(tài)控制技術以及準確控溫技術等半導體溫控設備核心技術,具備單通道、多通道半導體溫控設備批量生產能力;可實現從晶圓制造、涂膠顯影、刻蝕、清洗、薄膜沉積到實驗室測試研發(fā)等各個環(huán)節(jié)中的準確溫控。冠亞恒溫目前已與半導體多領域行業(yè)大企業(yè)達成合作,可為客戶提供標準品及用戶定制品,自2010年創(chuàng)辦以來不斷創(chuàng)新,注重研發(fā)和質量把控,生產的工業(yè)冷水機chiller系列產品具有設置方便、快速響應而準確控溫等特點,實現了低能耗、高穩(wěn)定性的冷卻效果,賦能半導體晶圓制造。